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L4513-3擴散爐

擴散爐是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一,用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業(yè)的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。

產品概述

   

                                                                            L4513-3擴散爐


一、簡介     

    擴散爐是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一,用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業(yè)的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。

       擴散爐由控制系統(tǒng)、進出舟系統(tǒng)、爐體加熱系統(tǒng)和氣體控制系統(tǒng)等組成??刂撇糠职ǎ簻乜仄鳌⒐β什考?、超溫保護部件、系統(tǒng)控制。系統(tǒng)控制部分有四個獨立的計算機控制單元,分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分,是擴散/氧化系統(tǒng)的控制中心。輔助控制系統(tǒng),包括推舟控制裝置、保護電路、電路轉接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風開關等。


二、產品特點: 
◆主機為水平一至四管爐系統(tǒng)構架,獨立完成不同的工藝或相同工藝 
◆工業(yè)計算機控制系統(tǒng),對爐溫、進退舟、氣體流量、閘門等動作進行自動控制 
◆采用懸臂送片器:操作方便、無摩擦污染等 
◆關鍵部件均采用進口,確保設備的高可靠性 
◆工藝管路采用進口閥門管件組成氣密性好、耐腐蝕、無污染

◆控溫精度高,溫區(qū)控溫穩(wěn)定性好; 
◆具有斷電報警、超溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能 
三、L4513-3擴散爐主要技術指標 

1、石英管直徑:¢120 , 3單管

2工藝規(guī)格:4寸硅片

3、工作溫度:200-1100

4恒溫區(qū)長度:600mm

5、升溫速率:15/

6升溫功率:小于10KW

7、保溫功率:小于5KW

8、外形尺寸:2000MM×600 MM×1400MM

9重量:600Kg
10、工作臺:有凈化/無凈化 
11、工藝氣路:對應的工藝氣路,氣路閥門組件采用國際優(yōu)質品牌產品


技術參數

 

1、石英管直徑:¢120 3單管

2、工藝規(guī)格:4寸硅片

3、工作溫度:200-1100

4、恒溫區(qū)長度:600mm

5、升溫速率:15/

6、升溫功率:小于10KW

7、保溫功率:小于5KW

8外形尺寸:2000MM×600 MM×1400MM

9、重量:600Kg
10、工作臺:有凈化/無凈化 
11工藝氣路:對應的工藝氣路,氣路閥門組件采用國際優(yōu)質品牌產品

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